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複雑な3次元形状に形成されたレジストパターンのできばえ評価において、熱に弱いレジストパターン試料を試料冷却機構と3軸イオン源を有するイオンミリング技術により、ダ・・・
電子デバイスは様々な特性から選択した異種材料が一体化して形成されており、異種材料間の接合技術が重要な鍵を握ります。 3次元のFIB-SEM/EDS・EBSD・ラ・・・
半導体デバイスの構造解析では、FIB/SEMで表面や断面を観察します。一般的には立体構造をした素子の一部分を切り出し、2次元の平板な画像を得ることで、どのような・・・
走査電子顕微鏡(SEM)は、試料の表面に電子線を照射して観察することで、微細な表面形状や組成、結晶方位を観察することができます。
LEDに使用される各種蛍光体粒子において、蛍光発光させた状態で顕微鏡観察を行い、各色蛍光体粒子の分布状態や発光色ごとの蛍光体粒子の成分が確認できます。
ICチップ内の多層配線やSi基板の故障箇所を特定するために、SEMで電位コントラスト(PVC)の違いを観察します。
当社で所有するプラズマFIB〔TESCAN SOLARIS X(Xeビーム加工)〕を用いたGaフリー加工において、SiC拡散層観察での有用性が確認できました。へ・・・
アルミダイカスト部品について、3次元X線顕微鏡(X線CT)による非破壊観察で内部欠陥の有無などの情報を取得することができます。また、内部に欠陥が確認された場合、・・・
FIB加工とSEM観察・EDS分析を繰り返し、取得した像をソフトウェアで再構築することで複合材料の情報を3次元的に得ることができ、欠陥や空孔を正確に把握できます・・・
OD錠1)の構造と崩壊メカニズムに関する調査の一環として、今回、水を滴下したOD錠(崩壊剤含有)の断面を観察することに成功しました。 当社が所有するプラズマFI・・・
市販のフレームにおけるアルミ材は、耐食性や耐摩耗性などを目的として、表面に陽極酸化皮膜(アルマイト)を形成しています。一般的な機械式研磨加工では、アルマイトの細・・・
TSVは、Siを貫通するビアを形成しメタルを埋め込みます。このメタルの応力により酸化膜のクラックが発生し、リーク不良に至るケースがあります。EBSDで結晶粒ごと・・・
不具合モデルに適した解析手法の立案および、断面・表面解析・分析を行います。
低加速電圧走査電子顕微鏡は、電子線の加速エネルギーを下げることで二次電子の脱出深さを極浅くし、薄膜や表面汚染をより鮮明に観察することができます。また、低加速電圧・・・
FIB加工とSEM観察、EDS分析を繰り返し、取得した像をソフトウェアで再構築することで複合材料の情報を3次元的に得ることができ、欠陥や空孔を正確に把握できます・・・
自動車用バンパーの塗装膜は数種類の塗料を用いた多層構造になっています。一般的な機械式研磨加工による断面観察では、添加されている微粒子の脱粒などが発生し、その正し・・・
電子部品の発熱による温度上昇や構成材料の熱膨張差によって、はんだ接合部に応力が発生しクラックが生じる可能性があります。 EBSDで結晶粒ごとの結晶方位やグレイン・・・
金属表面の印刷層のできばえ評価として、断面加工により金属との接合状態や発色成分の分散状態を観察できます。また、表面からTOF-SIMSのGCIBを用いた深さ方向・・・
はんだボールやボンディングなどのできばえを様々な手法で調査し、形状や接合の確認およびクラックなどの不具合に発展する可能性がある要因の有無を確認します。
金属表面に腐食防止などを目的に形成されたコーティング膜(樹脂やセラミックス)を評価する際には、イオンミリングによる断面加工を施すことで、金属との接合状態や樹脂材・・・
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