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近年、再生医療分野の成長が拡大しています。当社では細胞培養の製造工程評価の一環として、細胞培養液中の微量金属の分析を行なっています。 今回、間葉系幹細胞(MSC･･･
半導体や液晶などで使用される有機溶媒やレジスト、一般的な潤滑油やオイル、印刷用インク・塗料などの有機物を酸処理せずにそのまま、または有機溶媒で希釈してICP質量･･･
半導体デバイスの高集積化に伴い、製造工程は高い清浄度が求められています。特にクリーンルーム環境中や関連部材の極微量な不純物の制御、清浄度の評価が重要です。 当社･･･
半導体プロセスにおいて各工程ごとの汚染量を把握し、コントロールすることは重要です。 実際のプロセス/ウェーハでの金属元素の熱拡散挙動の評価、材料や部品から発生す･･･
次世代ディスプレイ材料として注目されている量子ドットは、数nm～数十nmの大きさをもつ化合物半導体の微粒子です。粒子サイズをコントロールすることで、色純度・色再･･･
強誘電体材料であるニオブ酸リチウム(LiNbO3)・タンタル酸リチウム(LiTaO3)は、優れた圧電特性・電気光学特性をもつ材料です。これらの組成および不純物量･･･
半導体やFPDなどの製造プロセスにおいて、プロセスに使用する様々な材料やガスの清浄化が求められます。高圧エア・CDA(クリーンドライエア)・N2やArガスなどの･･･
蛍光体の組成、賦活剤、不純物量は、当社独自の試料調製技術により、ICP-OESやICP-MSで定量が可能です。また、粒子内の成分分布はTOF-SIMSで分析が可･･･
半導体製造工程の心臓部であるリソグラフィ工程の品質を維持・改善するための評価技術をご提供します。特に装置内および装置を設置するクリーンルーム環境は、高い清浄度が･･･
フォトマスクのコンタミネーションは装置内の雰囲気や部品などにより発生し、ウェーハ上に欠陥として転写され不具合の原因となります。この原因を特定するためにはコンタミ･･･
組成比のわずかな違いや不純物が、半導体や磁気記録媒体などに用いられる薄膜の特性に影響を及ぼすことがあります。化学分析の高い繰り返し精度を生かし、特性に影響する可･･･
半導体製造工程における様々なプロセス評価を行うため、一定の濃度レベルに汚染したウェーハ(強制汚染ウェーハ)をご提供します。 目的に応じて、濃度・汚染方法・対象元･･･
装置内ではウェーハの搬送において、プロセスチャンバー内の汚染の引きずり、ウェーハ自体に含まれる電極などの金属、装置からのダストなどコンタミネーションを発生する汚･･･
ICP質量分析(ICP-MS)は、試料溶液中に含まれる微量な金属成分を一斉分析できる元素分析装置です。エアロゾル化された試料はアルゴンプラズマにてイオン化した後･･･
半導体製造工程において、製品の品質や作業者の安全を確保するためには、使用する製造装置の性能や安全性を管理することが重要です。装置性能の維持や、装置導入・立ち上げ･･･
半導体プロセスにおいて、デバイス性能に大きな影響を与える金属汚染のコントロールは重要です。当社では、汚染源・汚染領域など詳細に把握するための汚染評価手法として、･･･
封止樹脂に含まれる成分が変化して、リード電極などを腐食し不具合に至る場合があります。タブレットやパッケージ製品から封止樹脂を取り出して各試験を行うことにより、腐･･･
平坦部・ベベル部における他のウェーハからのクロスコンタミだけでなく、製品ウェーハや金属膜付きウェーハのウェーハ自身からのベベル汚染分析を可能にしました。金属膜・･･･
ナノマテリアルは、化粧品、家電・電気電子製品、塗料・インクなどの分野で幅広く使用されており、シリカ・二酸化チタン・ニッケル・アルミナ・酸化亜鉛・銀・酸化セリウム･･･
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