高圧ガス中の不純物分析Sampling and Impurity Analysis of High-Pressure Gas

半導体やFPDなどの製造プロセスにおいて、プロセスに使用する様々な材料やガスの清浄化が求められます。高圧エア・CDA(クリーンドライエア)・N2やArガスなどのガスラインから、目的の不純物に応じたサンプリング手法を選択し、高感度分析を実施します。

分析対象とサンプリング手法

目的のガスラインに適切な減圧が可能な独自のサンプリングキットを接続し、分析対象に応じたサンプリング分析を行います。

サンプリング手法
有機不純物 (吸着剤で捕集)
  • 対象:有機溶剤成分・環状シロキサン・フタル酸エステル系成分・油分
  • サンプリング:吸着剤
  • 分析手法:GC/MS(ガスクロマトグラフィー質量分析)
イオン・メタル不純物 (純水でバブリング捕集)
  • 対象:イオン成分 ⇒ F-,Cl-,NO2-,NO3-,SO42-,PO43-
    ・ギ酸・酢酸・NH4+・アミン類など
  • サンプリング:インピンジャー
  • 分析手法:IC(イオンクロマトグラフィー)
  • 対象:メタル成分 ⇒ Na,Fe,Cr,Cuなど
  • サンプリング:インピンジャー
  • 分析手法:ICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析)
有機不純物 (吸着剤で捕集)
  • 対象:有機溶剤成分・環状シロキサン・フタル酸エステル系成分・油分
  • サンプリング:吸着剤
  • 分析手法:GC/MS(ガスクロマトグラフィー質量分析)
イオン・メタル不純物 (純水でバブリング捕集)
  • 対象:イオン成分 ⇒ F-,Cl-,NO2-,NO3-,SO42-,PO43-・ギ酸・酢酸・NH4+・アミン類など
  • サンプリング:インピンジャー
  • 分析手法:IC(イオンクロマトグラフィー)
  • 対象:メタル成分 ⇒ Na,Fe,Cr,Cuなど
  • サンプリング:インピンジャー
  • 分析手法:ICP-MS(誘導結合プラズマ質量分析)

事例 CDAラインガス評価

(分析対象:有機不純物)

CDAラインガス評価

CDAラインのサンプリングによる不純物分析にて、油分・環状シロキサン・BHT(ジブチルヒドロキシトルエン)などの有機不純物を検出しました。ラインのパージ前後の分析結果を比較すると、有機不純物はパージ後に低減することが分かり、有機不純物の除去にパージが有効であることを検証できました。

[ 更新日:2022/03/30 ]

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