3DAPによる強磁性半導体の分析3DAP (APT) Analysis of Ferromagnetic Semiconductor

強磁性半導体において磁気特性に強く影響する磁性元素のクラスタリング分布を3DAP(3次元アトムプローブ)を用いて分析します。

強磁性半導体の磁性元素の分布

磁気特性に強く影響する磁性元素(Mn)の添加濃度が異なる二つの強磁性半導体(ZnSnAs2)薄膜について、Mn濃度変化およびクラスタリング分布を3DAPで評価しました。
(本検討は、長岡技術科学大学 内富先生との共同研究により行われたものです)

強磁性半導体(ZnSnAs2)薄膜の模式図
強磁性半導体(ZnSnAs2)薄膜の模式図
(Mn:2.1、3.6 atomic% 添加)
ZnSnAs2薄膜中Mnの深さ方向濃度プロファイル
ZnSnAs2薄膜中Mnの深さ方向濃度プロファイル
強磁性半導体(ZnSnAs2)の3DAP像と等濃度面法によるMnクラスタリング分布の可視化

[ 更新日:2022/03/30 ]

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