リソグラフィ工程の品質維持・改善Controlling the Quality of Lithography Processes
半導体製造工程の心臓部であるリソグラフィ工程の品質を維持・改善するための評価技術をご提供します。特に装置内および装置を設置するクリーンルーム環境は、高い清浄度が要求され、個別の環境・清浄度評価が必要となります。
当社は、これらのお客様のニーズに応じた評価技術をご提供します。
- 受託分析サービス
- クリーンルーム・プロセス評価
- リソグラフィ工程の品質維持・改善
露光装置周辺のケミカル成分評価
薬液の成分や含有濃度により分析手法が異なります。
| 工程で発生する問題とサンプリング箇所 | (1) | (2) | (3) | (4) | (5) | (6) | (7) | (8) | (9) |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 光学系照度劣化 (レンズ/ミラー・フォトマスク) |
○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||||
| レジスト塗布ムラ・形状不良(T-top)・ 剥がれ |
○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ||
| 液浸溶液の汚染 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| ケミカルフィルター能力低下 | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |||
| 循環水汚染・漏洩 | ○ | ○ | ○ | ○ | |||||
| 装置外ケミカル成分持ち込み | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | |
| 搬送系汚染(ケミカル・パーティクル) | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
対象成分
- イオン成分(NH4・SO4・アミン類・有機酸など)
- 有機成分(炭化水素・油分・シロキサンなど)
- 金属類
サンプリング
- 大気－固体捕集、液体捕集
- ウェーハ・フォトマスク表面回収
- ガス・液体など直接捕集
測定方法
- イオンクロマトグラフィー(IC)
- ガスクロマトグラフィー質量分析(GC/MS)
- ICP質量分析(ICP-MS)
[ 更新日:2025/04/24 ]
