高機能自動化SIMSHigh Performance Automatic SIMS

二次イオン質量分析(SIMS)は、全元素に対して高感度かつ高質量分解能測定での深さ方向分析が可能です。さらに当社では、試料導入から分析までの自動化機能を加え、高精度な自動測定が可能になりました。それによって、短期間で回答が求められる半導体デバイスなどのプロセス開発や不良解析への迅速なフィードバックを行うことができます。

特徴

高感度測定

  • Ag,In,Sbなどの重元素の高感度測定が可能

高質量分解能測定

  • M/ΔM=~10,000
  • SiやSiO2中のP,Al,Fe,Niなどの汚染量評価が可能

高い繰り返し精度での自動測定

  • 試料の入れ替え不要のため、短期間での対応が可能
  • 全自動ストレージチャンバー搭載:自動化された試料搬送系
  • 測定可能試料数:最大24個(連続測定)
  • 格納式Cs+銃:Cs+/O2+ 銃の自動切り替えにより、多様な分析に対応可能
全自動ストレージチャンバー
全自動ストレージ
チャンバー外観
装置外観
装置外観
高い繰り返し精度での自動分析
高い繰り返し精度での自動分析

微小部分析

  • スパッタ領域の二次イオンイメージから分析後に任意領域(最小:数µm×数µm)の深さ方向分布の抽出が可能
二次イオンイメージ、抽出した領域の深さ方向分布

[ 更新日:2022/03/30 ]

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