エネルギー分散型微小部蛍光X線分析(ED-µXRF)Energy Dispersive Micro Focused X-ray Fluorescence Spectrometry
X線管から発生したX線を細く絞って試料(A3サイズまで対応可能)に照射し､試料を透過した透過X線や試料から発生した蛍光X線を検出することにより､元素マッピング機能を用いたスクリーニング分析、微小部の分析、めっき厚の測定や内部構造分析を行うことができます｡
原理
X線集光導管で集光させた強力なX線ビームをX-Yステージでスキャンさせながら試料に照射し、試料から発生した蛍光X線を検出することにより、鮮明な元素マッピング測定と微小部の分析を行います。
特徴
- 大気下で非破壊の測定・分析が可能です。
- 測定・分析位置は、CCDカメラで特定します。
- Ｘ線照射径は、φ1.2mmとφ10µmの2種があり、微小部の元素分析も可能です。
- 元素マッピングは、下記の測定が可能です。
・ 試料サイズ : 500mm(W)×350mm(D)×85mm(H)
・ マッピングサイズ : 200mm×200mm
・ マッピング元素 : Na～Uまでの最大31元素
・ ポイント測定数 : 最大99ポイント
用途
- WEEE/RoHS、ELV
実装基板上の環境規制有害物質の元素マッピング測定と特定部位の分析 - 生産プロセスの改善
異物・腐食(微小部の元素)分析 - 大型や真空中に導入できない試料の元素マッピング測定と微小部の分析
- めっきの膜厚測定
事例
(1)元素マッピング機能を用いたスクリーニング分析
実装基板上のはんだ部とチップ抵抗部からPb(鉛)、基板部からBr(臭素)、コイル部からCr(クロム)が検出されました。
※透過像＋元素像(赤)
(2)微小な変色箇所の分析
実装基板上の微小変色箇所から、汚染元素としてCl(塩素)が検出されました。
(3)めっきの膜厚測定＊
蛍光X線分析によるAuめっき膜厚とNiめっき膜厚は、断面SEMの測長と、ほぼ同じになりました。
[ 更新日:2025/04/22 ]
