3次元アトムプローブ解析事例集

3次元アトムプローブ解析事例集 12 20-045(2) 0.0 0.5 1.0 1.5 0 5 10 15 0 100 200 300 400 500 Distance (nm) In Al Mg 等濃度面表示によるInの濃度分布評価 3DAPによるIn濃度の算出 3DAPは、3次元データが得られるだけでなく、マトリックス効果やミキシングの影響を 含まない、高精度な濃度プロファイルを提供可能です。 3DAPでMQWを分析した結果、 各ドープ層にInが約10atomic%の濃度でドープされていることが分かりました。 多様な等濃度面表示により、濃度分布の評価が可能です。 2 4 6 8 1 % 0 3DAP像 0 5 10 15 0 50 100 Distance (nm) 0 5 10 15 0 50 100 Distance (nm) 2 4 6 8 1 % 0 試料全体の濃度プロファイル MQWのIn濃度プロファイル MQWのIn濃度プロファイル MQW(異常部) MQW(正常部) 4層目 In5%等濃度面 解析範囲:φ50nm 解析範囲:φ50nm In In (In,Al) (Mg) Concentration / atomic% Concentration / atomic% Concentration / atomic% Concentration / atomic% In5%等濃度面 4層目 濃度プロファイル MQW p-GaN AlGaN SLs MQW p-GaN AlGaN SLs 濃度プロファイル Inの濃度分布 濃度プロファイル Inの濃度分布 濃度プロファイル

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