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東芝ナノアナリシス株式会社

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X線光電子分光装置(XPS)X-ray Photoelectron Spectroscope

XPSは数nmレベルの極表面の組成分析が行える表面分析手法です。また、元素の存在状態も評価可能であり、絶縁物表面も測定可能であるため、いろいろな表面の解析に広く利用されています。

原理

真空中で固体表面にX線を照射すると、試料中の原子の各軌道から電子(光電子)が放出されます。放出された光電子の運動エネルギーは各軌道の束縛エネルギーに対応し、元素、化学状態に特有です。そのため、光電子のエネルギーおよび強度を測定することにより、原子の同定、定量が可能となります。光電子の脱出深さは表面から数nmであり、極表面の情報が得られます。

特徴

  • 数nmの最表面の組成分析(Li〜)が可能
  • 感度は0.1 atomic%程度
  • 状態分析が可能
  • 絶縁物、有機物の測定が可能。非破壊分析
  • 測定領域は数10µmφ〜数100µmφ

用途

  • 極薄膜・最表面の評価(組成、不純物、汚染、状態)
  • 変色原因調査(汚染、変質、表面酸化)
  • 接合、接着不良の原因調査(表面汚染、変質、拡散)
  • 界面状態(深さ方向分析)

X線光電子分光装置(XPS)の原理図
原理図

X線光電子分光装置(XPS)の装置図
装置図

X線光電子分光装置(XPS)のXPSでわかること

XPSでわかること

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