クリーンルーム環境評価 5 16-179(3) 製造プロセス環境の有機汚染評価 Evaluation of Organic Contamination in Manufacturing Environment 有機成分のサンプリング 事例 露光装置周辺環境中の有機物評価 半導体デバイス・FPDのプロセスにおいて、有機汚染が品質に影響を及ぼすことから、環境中 の微量有機成分の清浄度管理が求められています。当社では、目的に応じた評価のデザイン、 独自のサンプリング技術・高感度な分析手法を用いて適切なプロセス環境評価をご提供します。 有機成分は固体吸着剤・ウェーハ・マスク(レチクル)を捕集媒体として使用し、プロセス環境の大気サンプリングを 行います。 捕集媒体を加熱することで脱離した有機成分をガスクロマトグラフで測定し、解析を行います。 固体(吸着剤)捕集法 ガスクロマトグラフ 吸着剤 大気をポンプで吸引して微量な 有機成分を吸着剤に捕集します。 気中成分の定性、および濃度が 定量値として得られます。 開放系大気のほか、機械内部 などにはチューブを接続すること で採取が可能です。 ウェーハ放置法・マスク(レチクル)吸着法 対象環境に捕集媒体を設置し、 吸着した微量有機成分の定性・吸着 量が得られます。 媒体を設置する条 件が整えば、装置内部などでも容易 にサンプリングが可能で、長期間捕集 にも対応可能です。 「ウェーハ放置法」、「マスク吸着法」、「固体(吸着剤)捕集法」では、捕集対象となる有機成分の特性が異なります。 「ウェーハ 放置法」「マスク吸着法」は高沸点・難揮発性、「固体(吸着剤)捕集法」は低沸点・揮発性・低極性の成分の捕集に適しています。 ウェーハ放置法 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50 55 リテンションタイム(min) アバンダンス DOP DOA TCEP DBP DOP 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20 22 24 26 28 30 マスク吸着法 アバンダンス リテンションタイム(min) DBP DOA 2-エチル-1-ヘキサノール ノナナール TCEP 2 4 6 8 10 12 14 16 18 20 22 24 26 28 30 固体(吸着剤)捕集法 アバンダンス リテンションタイム(min) トルエン DOP キシレン 2-エチル-1-ヘキサノール ノナナール BHT 事例 ウェーハ放置法：サンプリング時間と検出量 「ウェーハ放置法」は、捕集媒体を任意箇所に設置することが容易で、 直接大気の捕集が困難なチャンバー内、搬送経路の空間などの評価に適しています。 • サンプリング時間と総有機化合物(TOC)量の傾向を見ることが可能 • 対象環境の制約により採取時間が異なる場合でも、複数箇所の相対比較が可能 • 「固体(吸着剤)捕集法」と併用することで、気中濃度との相関確認などの応用が可能 D E C B 5 101520253035404550 A F G H リテンションタイム(min) 6時間 3時間 1時間 採取時間 A B C D E F G H 総有機化合物(μg/ウェーハ) 0 100 200 1時間 3時間 6時間 各成分検出量イメージ ガスクロマトグラフ測定結果 ガスクロマトグラフ測定結果 TOC：Total Organic Compounds
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