クリーンルーム環境評価 サンプリングポイントと評価 豊富なサンプリング技術 半導体デバイスの高集積化に伴い、製造工程は高い清浄度が求められています。 関連部材の 極微量な不純物の制御に加え、特にクリーンルーム環境中の清浄度の評価・管理は重要です。 当社では、目的に応じた評価のデザインをはじめ、独自のサンプリング技術・高感度な 分析手法を用いて、適切なクリーンルーム環境評価をご提供します。 表面汚染物捕集法 部材表面の拭き取りや溶媒抽出など により、直接または間接的に汚染物を 捕集します。 部材表面拭き取り法 流通法 吸着剤・液体捕集法 ガス・大気を固体吸着剤・液体に 通気させ微量成分を捕集します。 (対象：気中の有機物・金属など) 媒体(液体・固体)捕集法 独自サンプリング技術 蓄積された経験より、目的・対象に 応じた最適なサンプリング手法を ご提案します。 クリーンルームのサンプリングポイント例 プロセス装置 装置内部空間の汚染評価 部材からのアウトガス評価 装置構成部品・シール部材などからのアウトガス、 ウェーハやマスクに転写・吸着した成分の評価 CVD CDA CF FFU ULPA ：化学気相成長 ：クリーンドライエア ：ケミカルフィルター ：ファンフィルターユニット ：Ultra Low Penetration Air Filter フィルター除去性能、寿命、 成分ごとの除去効果、 汚染物質発生源調査など ケミカルフィルター評価 外気 クリーン ルーム ケミカルフィルター フィルター前 フィルター後 クリーンルーム環境評価 Cleanroom Environment Evaluation 3 26-015
RkJQdWJsaXNoZXIy NDY3NTA=