クリーンルーム環境評価 12 16-012(6) 流通法 純水抽出 フォトマスクのコンタミネーションは装置内の雰囲気や部品などにより発生し、ウェーハ上に 欠陥として転写され不具合の原因となります。 この原因を特定するためにはコンタミネーション 成分を特定することが重要です。 実使用環境下でのフォトマスク放置によりコンタミネーションを 捕集し、純水抽出・流通法により高感度に成分を特定・定量します。 不活性ガス気流中で、フォトマスクを加熱します。 フォトマスクから発生するアウトガスは、目的成分に応じた 捕集剤(固体・液体)で濃縮捕集します。 有機成分：ガスクロマトグラフィー質量分析(GC/MS) 液体クロマトグラフィー質量分析(LC/MS) 無機成分：イオンクロマトグラフィー(IC) • フォトマスクサイズの部材から発生するガスの分析が可能 150mm×150mmのサイズまで対応 • 捕集剤と分析装置の選択により有機成分・無機成分を分析可能 • フォトマスク上でngオーダレベルの定量が可能 試料チャンバーサイズ 220mmφ×10mm(H) 220mmφ×50mm(H) 加熱温度範囲 室温+20℃～400℃ 昇温(任意設定)可能 サンプリング面 片面/両面 パージガス He オーブン 固体捕集法 液体捕集法 アガウスト フォトマスクの全面、または片面を純水で抽出した回収液を検液とし、 イオンクロマトグラフィーで表面の残留イオン性成分の分析が可能です。 抽出時の温度制御も可能です。 吸着成分の違い クリーンルーム内に4時間放置したフォトマスクとSiウェーハについて、本装置により加熱・濃縮後、GC/MSで 有機成分を分析した結果、フォトマスクとSiウェーハでは吸着成分が異なることが分かりました。 このことより、 有機汚染に対する調査・対策などは、おのおの必要であると言えます。 定量下限は10ng/フォトマスクです。 DEHP DOA DBP ▼▼ ▼ DEHP DNOP DINP DOA DBP ドデカノール 無水フタル酸 フォトマスク Siウェーハ DBP DOA DEHP DNOP DINP ▼ ：フタル酸ジブチル ：アジピン酸ジオクチル ：フタル酸ビス(2-エチルヘキシル) ：フタル酸ジ-n-オクチル ：フタル酸ジイソノニル ：Si系成分 フォトマスクのコンタミネーション高感度分析 Analysis of Contamination on Photomask
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