フォトマスクのコンタミネーション高感度分析Analysis of Contamination on Photomask

フォトマスクのコンタミネーションは装置内の雰囲気や部品などにより発生し、ウェーハ上に欠陥として転写され不具合の原因となります。この原因を特定するためにはコンタミネーション成分を特定することが重要です。実使用環境下でのフォトマスク放置によりコンタミネーションを捕集し、純水抽出・流通法により高感度に成分を特定・定量します。

流通法

不活性ガス気流中で、フォトマスクを加熱します。フォトマスクから発生するアウトガスは、目的成分に応じた捕集剤(固体・液体)で濃縮捕集します。

有機成分:
ガスクロマトグラフィー質量分析(GC/MS)
液体クロマトグラフィー質量分析(LC/MS)

無機成分:
イオンクロマトグラフィー(IC)

流通法概略図
流通法概略図
  • フォトマスクサイズの部材から発生するガスの分析が可能
    150mm×150mmのサイズまで対応
  • 捕集剤と分析装置の選択により有機成分・無機成分を分析可能
  • フォトマスク上でngオーダレベルの定量が可能
試料チャンバーサイズ 220mm φ×10mm(H)
220mm φ×50mm(H)
加熱温度範囲 室温+20℃~400℃
昇温(任意設定)可能
サンプリング面 片面/両面
パージガス He

純水抽出

フォトマスクの全面、または片面を純水で抽出した回収液を検液とし、イオンクロマトグラフィーで表面の残留イオン性成分の分析が可能です。抽出時の温度制御も可能です。

純水抽出イメージ
純水抽出イメージ

吸着成分の違い

クリーンルーム内に4時間放置したフォトマスクとSiウェーハについて、本装置により加熱・濃縮後、GC/MSで有機成分を分析した結果、フォトマスクとSiウェーハでは吸着成分が異なることが分かりました。このことより、有機汚染に対する調査・対策などは、おのおの必要であると言えます。
定量下限は10ng/フォトマスクです。

フォトマスクとSiウェーハGC/MS分析結果

[ 更新日:2022/03/30 ]

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