接合部の組成・結晶性・応力評価Analysis of Composition, Crystallinity and Stress in Joint Area
電子デバイスは様々な特性から選択した異種材料が一体化して形成されており、異種材料間の接合技術が重要な鍵を握ります。
3次元のFIB-SEM/EDS・EBSD・ラマン散乱分光により、接合時の反応生成物の挙動、加熱・冷却に伴う熱残留応力・ひずみの影響を解析することができます。
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TSV: Through Silicon Via (Si貫通電極)
FIB: Focused Ion Beam (集束イオンビーム)
SEM: Scanning Electron Microscope (走査電子顕微鏡)
EDS: Energy Dispersive X-ray Spectroscopy (エネルギー分散型X線分光)
EBSD: Electron BackScatter Diffraction (Pattern) 〔電子後方散乱回折(パターン)〕
[ 更新日:2024/02/26 ]
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